在進行氫氧化鈣漿液精制操作時，如果把旋液分離器中強旋流近似看作不定常數軸對稱流動，那么在圓柱體坐標中，可定義流函數為：
根據家對旋流分離器中V1、V2的分布，便可獲取空間各點處的流函數，將等流函數的點連成曲線便是實測的流線圖。局部二次流流態示意圖可見圖2。局部二次流主要有環形空間縱向流、溢流口短路流、底流口附近偏流等。具體情況如下：
1、環形空間縱向流。在氫氧化鈣漿液制取過程中，旋液分離器頂板下部有優異動緩慢的邊界層，它的靜壓隨半徑變化比中部強旋流靜壓變化更為平緩，于是對外側靜壓較高的流體向上流入此邊界層內起到一定促進作用，并沿邊界層向內側流動，遇溢流管壁而轉折向下，沿溢流管外壁下行，自下入口處進入溢流管，形成所謂的縱向環流。這與彎曲管道內形成的縱向環流相近。
2、溢流管口附近短路流。溢流管下口處常存在較大向心徑向速度，從圖2可看出，旋流分離設備進料口速度越大，徑向向心速度就越大。此種大的徑向向心速度會將大量顆粒帶入溢流口中，從而很大程度上影響氫氧化鈣漿液制取時的分離效率。
3、錐體下部底流口偏流。旋流分離設備下行流中一部分經底流口排出，另一部分則轉折進入上行流，后者同時處于錐體部分較小空間，高速旋轉的流體在底流口出產生劇烈的動量交換及湍流能量耗散，令內旋流不平衡。另外因溢流管的軸線不會于圓錐體軸向完全重合，因此內旋流波動就會較大，偏斜的內旋流下端將呈“擺尾”現象，周期性掃到錐體壁上，形成較多的偏心縱向環流，它會把已濃集在器壁上的大顆粒重新揚起并帶入上行旋流內，形成“返混”，此種現象將很大程度影響氫氧化鈣漿液分離效率。
以上進行的氫氧化鈣漿液精制過程，勢必會應用到氫氧化鈣設備等相關部件，與其相關信息可參考：http://www.mahuadsj.com/products/3206.html
